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隨著空氣潔凈度要求的提高，工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越高，應(yīng)該達(dá)到一定的溫濕度等級(jí)。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。

潔凈室的溫濕度一般來(lái)說(shuō)是根據(jù)您的加工工藝要求來(lái)確定，在滿(mǎn)足加工工藝的條件下，**需要思考人的舒適感。

直徑100微米的硅片，溫度上升1度，就導(dǎo)致了0.24微米的線性膨脹，因此一定得有±0.1度的溫度恒定，與此同時(shí)需求是的濕度值一般低一些，所以人在流汗之后，會(huì)對(duì)產(chǎn)品出現(xiàn)污染的情況，尤其是在半導(dǎo)體車(chē)間里，這樣的車(chē)間不要大于25度左右。假如濕度超過(guò)導(dǎo)致的問(wèn)題更加多。相對(duì)濕度越過(guò)百分之五十的時(shí)候，冷卻水管壁上會(huì)凝結(jié)露水，假設(shè)發(fā)生在*密裝置又或者是電路里，就可能會(huì)導(dǎo)致不一樣的問(wèn)題。

相對(duì)濕度在一半的時(shí)候較容易生銹。不過(guò)對(duì)于大部分潔凈空間里面，希望預(yù)防外部的污染情況，得保持內(nèi)部的壓強(qiáng)需要超過(guò)外面的壓強(qiáng)。壓力差的維持一般應(yīng)符合下列的一些原則：

1、潔凈度層級(jí)較高的空間的壓強(qiáng)需要超過(guò)相近的潔凈度層級(jí)較低的空間的壓強(qiáng)。

2、潔凈室的壓強(qiáng)要高于非潔凈空間的壓力。壓力的差距的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)充在這一壓力差下從縫隙漏少掉的風(fēng)數(shù)量。因此壓強(qiáng)差的含義就是漏泄(或滲透)風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻礙。

3、連通的潔凈室里的門(mén)得開(kāi)向潔凈層級(jí)相對(duì)高的空間內(nèi)。

對(duì)于亂流潔凈室因?yàn)橹饕獞{借空氣的稀釋能力來(lái)減緩室內(nèi)污染的層級(jí)，因此主體是采取換氣數(shù)量這一問(wèn)題，而不直接運(yùn)用速率的理念，不過(guò)對(duì)室里氣體流動(dòng)速度也有相當(dāng)?shù)男枨蟆?/p>